통신
RFHIC의 질화갈륨 (GaN) 기술을 통해 차세대
무선통신 인프라 시장을 이끌고 있습니다.
무선통신 인프라 시장을 이끌고 있습니다.
RFHIC DiaFlux™ 180은 플라즈마 화학 기상 증착으로 성장시킨 다결정(Polycrystalline) CVD 다이아몬드 방열재(히트 스프레더)입니다. 25 °C에서 1,800 W/m·K의 높은 열전도율과 전기 절연 특성을 제공하며, 200/350/500 µm 두께와 맞춤 사이즈·형태 가공을 지원합니다. AI 가속기, 고출력 GaN HEMT, RF·마이크로파 소자, SiC 전력 반도체, 레이저 다이오드 등 다양한 고출력 소자의 열관리에 적합합니다.
View Product Specification| Size | Ø3–100 mm (round) / 3×3–70×70 mm (square) |
|---|---|
| Edges | Laser cut |
| Edge Features | <0.2 mm |
| Lateral Tolerance | ±0.2 mm |
| Form | Custom Plate, Chip, Heat Spreader, Wafer |
| Growth Method | Plasma Chemical Vapor Deposition |
| Structure | Cubic, Polycrystalline |
| Thermal Conductivity | 1,800 W/m·K (at 25 °C) |
| Thickness | 200 / 350 / 500 µm (±20 µm) |
| Surface Roughness (Ra) | <20 nm |
| Electrical Property | Electrically Insulating |
| Grade | High Performance Thermal Grade |